PECVD系統
高真空PECVD系統是由管式爐,真空系統、供氣系統、射頻電源系統等組成。系統主要應用于金屬薄膜,陶瓷薄膜等,復合薄膜,石墨烯等生長。PECVD系統增加功能容易,可擴展等離子清洗刻蝕等功能,PECVD系統薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高等優點。
高真空PECVD系統能在石英管式爐內完成CVD乃至PECVD生長,又能直接將產成的晶體樣品送入STM等分析裝置進行測量,大幅提升樣品品質,有效地提高了科研能力。
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